武汉HVP高压窄脉冲电源

主要型号：

主要特点：
   A具有行动稳定电压功能，具有理想的电压陡降特性，
有效抑制工件表面打火，明显提高镀件的成品率、表面光洁度和膜层结合力。
   B 电压脉冲输出峰值可达3500V。
   C 频率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脉冲宽度25uS)。
   D 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

高压窄脉冲电源适用于特殊镀膜工艺时被镀工件表面的辉光清洗、镀膜前的离子轰击和镀膜时的离子加速等。

社会不断发展，技术也是不断得在创新。真空镀膜电源的运用范围是越来越广泛了，真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的电学膜；数字式纵向与横向均可磁化的数据记录储存膜；充分展示和应用各种光学特性的光学膜；计算机显示用的感光膜；TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜；建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜；包装领域用防护膜、阻隔膜；装饰材料上具体各种功能装饰效果的功能膜；工、模具表面上应用的耐磨超硬膜；纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等。对于国内真空镀膜设备制造企业发展建议如下：

1、目前实体经济走势整体疲弱，复苏充满不确定性，经济处于继续探底过程，真空镀膜设备制造企业应着力进行产业结构优化升级，重质量、重服务明确市场定位，大力研发拥有自主知识产权的新产品新工艺，提高产品质量和服务水平。

2、依托信息化发展趋势，坚持“以信息化带动工业化，以工业化促进信息化”，走出一条科技含量高、经济效益好、资源消耗低、环境污染少、人力资源优势得到充分发挥的新型工业化路子。

3、依托政府支持，大力加强与拥有行业先进技术和工艺水平的科研院所、大型企业、高校合作，使得新品能迅速推向市场。

真空镀膜技术及设备拥有十分广阔的应用领域和发展前景。未来真空镀膜设备行业等制造业将以信息化融合为重心，依靠技术进步，更加注重技术能力积累，制造偏向服务型，向世界真空镀膜设备行业等制造业价值链高端挺进。