北京MSD系列直流磁控溅射电源

主要型号：

主要特点：
   A 采用先进的电流型开关电源技术，减小输出储能元件，
同时提高了抑制打火及重启速度，应用在铝靶镀膜优势更为明显。
   B 具备恒流/恒功率模式可选。恒功率模式相对于传统的恒流模式，
更能保证镀膜工艺的重复性。
  C 具有理想的电压陡降特性，自动识别伪打火现象，
充分满足磁控溅射工艺过程的连续性。
  D 主要参数可大范围调节
  E 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
  F 采用进口大功率IGBT&MOS模块
采用先进的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

直流磁控溅射用于镀制各种金属

在电子科技快速发展的时代中，电源的应用可以说是随处可见的，或许正是因为电源的普遍应用，所以电源的类型也随之而多样。真空镀膜电源是众多电源类型中的一种，这种电源与普通的电源有一定的区别，单是电源的外观就有明显的不同。

     真空镀膜机光学镀膜加工上有什么要注意的吗？当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。

真空镀膜机增透膜增加透射光强度的实质是作为电磁波的光波在传播的过程中，在不同介质的分界面上，由于边界条件的不同，改变了其能量的分布。对于单层薄膜来说，当增透膜两边介质不同时，薄膜厚度为1/4波长的奇数倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)时（分别是介质1、2的折射率），才可以使入射光全部透过介质。一般光学透镜都是在空气中使用，对于一般折射率在1.5左右的光学玻璃，为使单层膜达到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；还要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一个波长。单层膜只对某一特定波长的电磁波增透，为使在更大范围内和更多波长实现增透，人们利用镀多层膜来实现。

人们对增透膜的利用有了很多的经验，发现了不少可以作为增透膜的材料；同时也掌握了不少先进的镀膜技术，因此增透膜的应用涉及医学、军事、太空探索等各行各业，为人类科技进步作出了重大贡献。