真空镀膜应用的主要方法

真空镀膜应用，简单来说就是指在真空环境下，利用蒸发、溅射以及后续的冷凝等方法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体、塑料件等物体上沉积金属薄膜或涂层。真空镀膜应用与传统镀膜方法相比，属于干式镀膜方法，其主要方法有以下几种:

真空蒸发镀膜

原理是用蒸发器在真空条件下加热蒸发的物质，使其蒸发或升华。蒸发的离子流直接指向衬底，在衬底上沉积固体薄膜。

溅射沉积

溅射镀膜是在真空条件下，对阴极施加2000V的高压激发辉光放电的过程。带正电的氩离子与阴极碰撞，使其释放出原子，这些原子随后在惰性气氛中沉积在衬底上，形成一层薄膜。

离子涂层

干式螺杆泵生产厂家已经推出了真空离子镀膜。它是在上述两种真空镀膜技术的基础上，结合了两者的工艺特点而发展起来的。在真空条件下，用气体放电使工作气体或蒸发物质(膜材料)部分电离，在离子轰击下，蒸发物质或其反应物沉积在衬底表面。在膜的形成过程中，基底总是受到高能粒子的轰击，使其非常干净。

真空绕组镀膜

真空缠绕镀膜是一种利用物理气相沉积对柔性基材进行连续镀膜的技术，以达到柔性基材的某些功能和装饰性能。